二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（） ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数 ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数 ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度 ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度
A、②④
B、①③
C、①④
D、②③

相关标签：二氧化硅

提示：未搜索到的试题可在搜索页快速提交，您可在会员中心"提交的题"快速查看答案。

答案

查看答案

搜题

相关试题

半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于（）。

A、结晶形二氧化硅

B、无定形二氧化硅

半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于无定形二氧化硅。

A、对

B、错

下列哪些粉尘要求车间空气中的粉尘容许浓度不超过2mg/m3A:含10%以下游离二氧化硅的滑石粉尘
B:含10%以下游离二氧化硅的水泥粉尘
C:玻璃棉和矿渣粉尘
D:二氧化硅含量大于10%的粉尘E：石棉粉尘及含10%以上石棉的粉尘

矽肺是指()。

A、吸入游离二氧化硅(SiO2)粉尘微粒在肺内沉积引起肺组织损伤及纤维化并伴有肺功能损害的疾病

B、吸入游离二氧化硅(SiO2)粉尘微粒在肺内沉积引起肺组织损伤的疾病

C、长期吸入游离二氧化硅(SiO2)粉尘微粒在肺内沉积引起肺组织损伤及纤维化并伴有肺功能损害的疾病

D、吸入游离二氧化硅(SiO2)粉尘微粒在肺内沉积引起肺纤维化并伴有肺功能损害的疾病

除盐水监督二氧化硅，是因为阴树脂对HSiO3-（）最小，交换能力也就最弱，当运行到终点时，最先泄漏出的就是二氧化硅。因此除盐系统均把二氧化硅升高做为失效终点。

A、交换容量

B、选择系数

C、排斥性

D、携带系数