题目
半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于()。
A、结晶形二氧化硅
B、无定形二氧化硅
相关标签: 二氧化硅 生产中 半导体
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除盐水监督二氧化硅,是因为阴树脂对HSiO3-()最小,交换能力也就最弱,当运行到终点时,最先泄漏出的就是二氧化硅。因此除盐系统均把二氧化硅升高做为失效终点。
A、交换容量
B、选择系数
C、排斥性
D、携带系数
光导纤维的主要成分是二氧化硅,下列关于二氧化硅的说法正确的是
A.二氧化硅是H2SiO3的酸酐,因此能与水反应
B.用二氧化硅制取单质硅时,当生成2.24L气体(标准状况)时,得到2.8g硅
C.光导纤维遇强碱和强酸会发生“断路”
D.二氧化硅不能与碳酸钠溶液反应,但能与碳酸钠固体在高温时发生反应
热氧化过程中是硅向二氧化硅外表面运动,在二氧化硅表面与氧化剂反应生成二氧化硅。
A、对
B、错
下列可以引起矽肺的粉尘是()
A、含结合型二氧化硅粉尘
B、含游离二氧化硅粉尘
C、石棉尘
D、煤矽尘
下列哪些粉尘要求车间空气中的粉尘容许浓度不超过2mg/m3A:含10%以下游离二氧化硅的滑石粉尘
B:含10%以下游离二氧化硅的水泥粉尘
C:玻璃棉和矿渣粉尘
D:二氧化硅含量大于10%的粉尘E:石棉粉尘及含10%以上石棉的粉尘
B:含10%以下游离二氧化硅的水泥粉尘
C:玻璃棉和矿渣粉尘
D:二氧化硅含量大于10%的粉尘E:石棉粉尘及含10%以上石棉的粉尘