离子交换器排水装置垫层的石英砂质量要求是()。
A、二氧化硅含量在95%以上
B、二氧化硅含量在9%以上
C、二氧化硅含量在90%以上
D、二氧化硅含量在50%以上
半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于()。
A、结晶形二氧化硅
B、无定形二氧化硅
热氧化过程中是硅向二氧化硅外表面运动,在二氧化硅表面与氧化剂反应生成二氧化硅。
A、对
B、错
光导纤维的主要成分是二氧化硅,下列关于二氧化硅的说法正确的是
A.二氧化硅是H2SiO3的酸酐,因此能与水反应
B.用二氧化硅制取单质硅时,当生成2.24L气体(标准状况)时,得到2.8g硅
C.光导纤维遇强碱和强酸会发生“断路”
D.二氧化硅不能与碳酸钠溶液反应,但能与碳酸钠固体在高温时发生反应
随着石料中二氧化硅含量提高,石料与沥青的粘附性()。酸性石料中二氧化硅含量(),与沥青的粘附性()。碱性石料中二氧化硅含量(),与沥青的粘附性()。粘附性试验室内采用()和()。
硅钼黄光度法测定水中可溶性二氧化硅的原理为:在PH约在1.2时,钼与硅酸反应生成黄色可溶的(),在一定浓度范围内,其黄色深浅与二氧化硅的浓度成正比,于波长()nm,处测量吸光度,求得二氧化硅的浓度。
半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于无定形二氧化硅。
除盐水监督二氧化硅,是因为阴树脂对HSiO3-()最小,交换能力也就最弱,当运行到终点时,最先泄漏出的就是二氧化硅。因此除盐系统均把二氧化硅升高做为失效终点。
A、交换容量
B、选择系数
C、排斥性
D、携带系数
热分解化学气相淀积二氧化硅是利用()化合物,经过热分解反应,在基片表面淀积二氧化硅。
下列可以引起矽肺的粉尘是()
A、含结合型二氧化硅粉尘
B、含游离二氧化硅粉尘
C、石棉尘
D、煤矽尘
选择综合防垢剂中各成分时,对对镁硬小、二氧化硅含量高的水,可添加镁盐,以吸附水中的二氧化硅,使其生成具有蛇纹石结构的流动性水渣;对镁硬大、二氧化硅含量较少的水,则添加一定量的硅酸钠也可以起到同样的作用。()